头颅MR 平扫，检查方法：以OM为基线，横断面：T1WI／T2WI／T2 Dark Fluid／DWI（b800t）；矢状位：T1WI；层厚6mm，间隔1mm，MR平扫放射学表现：两侧额顶叶皮层下小斑点异常信号影，T1WI为低信号，T2WI为高信号、T2 Dark Fluid呈稍高信号；DWI呈等信号。中线结构无移位，各脑室及脑池有扩大，脑沟增宽，脑回清晰。放射学诊断：两侧额顶叶皮层下小缺血灶。脑萎缩。